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脉冲激光退火中分凝效应对杂质分布影响的理论分析

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一、引言激光退火是近几年发展起来的新技术.它不但能使离子注入时形成的无定型半导体表面层恢复为单晶,而且可使汽相淀积或溅射在单晶衬底上的非晶或多晶薄层转变为单晶.山于激光退火工艺简单.得到的晶体完整性好,杂质的激活率高,因此它越来越受到广泛重视.

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来源
《北京师范大学学报：自然科学版》|1982年第3期|35-42|共8页
作者
田人和; 卢武星; 张官南;
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作者单位

北京师范大学低能核物理研究所;

扬州师范学院物理系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体技术;
关键词
激光退火; 分凝; 杂质分布; 固液交界面; 有效分凝系数; 晶体生长速度; 表面层; 理论分析; 激活率; 液相外延;
入库时间 2022-08-20 17:04:45

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