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汪浩; 王秀芬; 郭林; 朱鹤孙;
北京理工大学材料科学研究中心;
介电性能; 金刚石薄膜; 直流电弧等离子体CVD;
机译:化学气相沉积金刚石薄膜介电性能的研究
机译:掺氢化学气相沉积金刚石薄膜的介电性能
机译:直接液相注入化学气相沉积法制备氧化铌薄膜的介电性能和X射线光电子能谱研究
机译:低压金属化学气相沉积(MOCVD)作为前体的低压金属化学气相沉积(MOCVD)生长氧化铒和氧化钆高k介电薄膜的对比研究
机译:金刚石薄膜在电推进中的应用:低能量溅射产率测量和MPD等离子体辅助化学气相沉积。
机译:使用低压化学气相沉积的Si3N4介电层改善介电电润湿微流体器件的介电性能
机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积技术的比较研究。
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
机译:紫外线照射可改善化学气相沉积形成的介电聚合物薄膜的性能和粘合性
机译:制造化学气相沉积金刚石产品,例如切削工具,包括在模具界面处沉积化学气相沉积金刚石至所需厚度,溶解模具,并将剩余的金刚石安装在支架中
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