钴离子印迹聚合物的制备及性能研究

摘要

以Co2+为模板,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为表面活性剂,N-3-(三甲氧基硅基)丙基乙二胺(TPED)为功能单体,四乙氧基硅烷(TEOS)为交联剂,采用表面印迹法合成出钴离子印迹聚合物,并研究了印迹聚合物对Co2+的吸附性能。