首页> 中文期刊> 《现代信息科技》 >某星载二次电源耳片损伤原因分析及改进措施

某星载二次电源耳片损伤原因分析及改进措施

         

摘要

根据产品设计规范、产品生产过程记录材料以及试验相关资料,对某星载二次电源研制过程中,冲击试验时耳片损伤问题进行了原因分析。探究了冲击试验时耳片损伤的机理,提出了增加耳片数量的改进措施,并通过理论分析与试验对改进措施进行了验证。分析结果表明改进措施有效,明显提高了耳片设计裕度。试验结果表明,试验后试验件耳片无损伤,增加耳片数量解决了冲击试验时耳片损伤的问题。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号