虹科HK-CIFX PC通讯板卡使匀胶显影机控制一体化

摘要

1前言匀胶显影机是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备,包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等。—般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压辐、涂胶槽等部分组成,其适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺。