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刘秋华; 刘敬成; 郑祥飞; 穆启道; 刘晓亚;
江南大学化学与材料工程学院,无锡214122;
苏州瑞红电子化学品有限公司,苏州215124;
聚氨酯丙烯酸酯; 光致抗蚀剂; 碱溶性; 光固化;
机译:用于负性光致抗蚀剂的UV固化聚碳酸酯二醇(PCDL)基聚氨酯丙烯酸酯的合成
机译:吡咯亚甲基染料敏化光敏聚合物-聚合物基体中的光化学行为及其在印刷电路板上的光致抗蚀剂中的应用
机译:具有光碱生成侧链的碱增强型有机硅树脂及其在负性光致抗蚀剂中的应用
机译:电沉积光致抗蚀剂树脂的合成及其光敏性能研究
机译:基于四苯硼酸盐的光碱产生剂和牺牲聚碳酸酯的开发,用于辐射固化和光致抗蚀剂应用。
机译:超支化和有机硅氧烷改性水性聚氨酯丙烯酸酯光敏树脂的合成与表征
机译:聚合物中活性胺官能团的光生成:光敏共聚物的合成及其在光固化中的应用
机译:集成电路制造中光致抗蚀剂层的结构包括将包括成膜聚合物和光敏酸产生剂的光致抗蚀剂层暴露于光,使层与碱接触并加热后显影。
机译:碱 - 可溶性光敏树脂组合物和碱 - 可溶性光敏树脂
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