明导宣布支持三星14nm IC制造工艺的综合设计实现平台出台

摘要

俄勒冈州威尔逊维尔，2012年12月21日一一明导公司（Mentor Graphicsi Corp，纳斯达克代码：MENT）今天宣布，用以支持三星14nmIC制造工艺的综合设计、制造与后流片实现（post tapeout）平台问世，这一平台能够为客户提供完整的从设计到晶圆的并行流程，使早期加工成为可能。