2011年国际光学工程学会先进光刻技术会议在美国召开

摘要

2011年国际光学工程学会先进光刻技术会议于2月27日—3月3日在美国硅谷城市圣何塞市（San Jose）召开.来自中国、日本、韩国、比利时、英国、法国、新加坡、澳大利亚、德国、美国、印度、以色列、香港、台湾等21国家和地区近1400名专家学者和研发人员参加了本次会议.