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于爱芳; 范飞镝; 刘中星; 朱镛; 陈创天;
中国科学院,理化技术研究所,人工晶体研究与发展中心,北京,100080;
中国科学院,研究生院,北京,100039;
LiB3O5; SiO2内保护层; 倍频增透膜; 激光损伤阈值 ; 损伤形貌;
机译:LiB_3O_5晶体不同中间层厚度倍频增透膜的设计与制备
机译:桑迪亚国家实验室不同清洗工艺对Z-Backlighter光学增透膜的激光损伤阈值的影响
机译:LiB3O5晶体中的杂质和辐射缺陷。 LIB3O5晶体中心的性质,在光学元件的长期运行期间负责着色
机译:波混对紫外巢穴产生LiB3O5晶体的光学损伤阈值的影响
机译:多晶硅和SiO2薄膜的非Prestonian RRs和残余应力对各种类型的SiO2和Si 3N4薄膜的RRs的影响。
机译:周围环境对生长的纳米晶体的原子结构和平衡形状的影响:SiO2中的金/ SiO2
机译:L-精氨酸对KDP晶体光学性质,晶体完善度和激光损伤阈值的影响
机译:在aR sub 2玻璃上具有高损伤阈值的增透膜。总结报告
机译:腔内三倍频激光器的光谐振器带有两个彼此面对的反射镜,两个非线性晶体,两个倾斜的光学平板,激光晶体和它们之间的Q开关调制器
机译:用于燃烧和/或加热设备(尤其是电热塞,火花塞或加热器)的辉光,点火或加热元件具有高度稳定的腐蚀保护层,该保护层包括SiO2和其他材料的混合物
机译:用更高难度的等离子体设备测量选择性高的SIO2对SIO2的影响
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