离子束流后处理对类金刚石薄膜激光损伤特性的影响

摘要

类金刚石薄膜激光损伤阈值低,已经严重制约其在红外激光系统中的应用.基于非平衡磁控溅射技术,在硅基底上沉积类金刚石薄膜;采用离子束流后处理技术,用正交实验法确定影响处理效果的主要因素,对已沉积完成的DLC薄膜进行离子束轰击;在不同处理工艺下,观测薄膜样品的光学常数及拉曼光谱,最后进行了激光损伤测试.从测试结果可知,离子束流后处理参数:离子能量1000 eV、放电电流30～40 mA、轰击时间8 min时,透射率由原来的60.65％提高到了65.98％;消光系数在900 nm后明显降低,DLC薄膜的激光损伤阈值从0.69 J/cm2提高到1.01J/cm2.