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溅射沉积; MoS2/金属复合薄膜; 摩擦学特性;
机译:RF磁控溅射技术沉积MOS2薄膜的摩擦学特性
机译:嵌套结构材料沉积的磁控溅射MOS2薄膜的微观结构和摩擦学特性。
机译:封闭场不平衡磁控溅射离子镀制备的溅射沉积MoS {sub} 2 /金属复合涂层的涂层特性和摩擦学性能
机译:/苯乙二胺对暴露于狮子座环境的溅射Mos2薄膜的摩擦学性能的影响
机译:磁控溅射薄膜涂层材料特性及摩擦学性能研究
机译:射频磁控溅射在CpTi衬底上制备TiC薄膜的微观结构结构和摩擦学特性的数据集
机译:反应磁控溅射沉积Si3N4–MoS2薄膜的物理化学,结构,力学和摩擦学特性
机译:摩擦沉积mos2固体润滑剂薄膜在滑动磨损和压痕接触过程中的摩擦学性能和变形。
机译:改进和改善金属外涂层(例如二硫化钼(MoS2)涂层)的溅射沉积的方法
机译:改善金属硫涂层如二硫化钼(MoS2)涂层溅射沉积的方法
机译:高纯度钇制备高纯度钇溅射靶金属栅薄膜的高纯度钇工艺,所述高纯度钇溅射靶金属栅薄膜沉积有所述的金属栅膜,所述器件具有半导体元件和器件
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