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刘化然; 闫蕾;
国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心 北京100096;
铜合金层; 蚀刻液; 专利分析;
机译:蚀刻液体晶体组织的影响及蚀刻液的蚀刻因子
机译:氟基湿法蚀刻液/清洗液:CMP后清洗液/ SiO_2 / SiN高选择性蚀刻液
机译:含钒和钇的二元铜合金的带状带基材,用于外延沉积缓冲层和超导层
机译:真空等离子喷涂钨涂层与铜合金之间的等离子层应用中的顺应层的优化
机译:用于银和铜合金文化遗产物体的新型保护涂层,使用原子层沉积的金属氧化物阻挡膜制成。
机译:940nm二极管激光辐照对蚀刻液和冲洗粘合剂(单键2)与牙本质的微拉伸粘合强度的影响
机译:专利分析和专利检索文本挖掘技术:专利检索和专利分析服务专利集成
机译:铝的烧碱蚀刻液的再生
机译:用于铜箔的蚀刻液,使用铜箔的已知蚀刻液生产印刷线路板的方法,用于电解铜层的蚀刻液以及用于电镀铜的铜柱状蚀刻液的生产方法
机译:用于铜或铜合金的蚀刻液,以及使用该蚀刻液生产电子基体的方法
机译:专利分析程序,是专利分析方式和专利分析
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