旋转阴极支撑端头装置设计

摘要

介绍了一种可有效提高靶材利用率(可达80％以上),减少非溅射区沉积问题的磁控溅射旋转阴极的支撑端头的结构设计,使得真空镀膜的非溅射区面积减小60％以上,克服矩形平面阴极高成本、低质量的技术缺点.