单晶圆FEOL光阻去除创新解决方案问世，可缩短工艺流程

摘要

单晶湿式处理解决方案提供商SEZ（瑟思）集团日前宣布，已开发出新型化学工艺，将极大地改善前段工艺（FEOL）中的光阻去除工艺。SEZ的专有技术Enhanced Sulfuric Acid（ESA）去除工艺能够利用一系列以硫酸为主的化学试剂，缩减了目前在光阻去除机或者批式环境中实施的光阻去除工艺的步骤：光阻重修、蚀刻植入后和光阻去除以及在等离子光阻去除工艺之后的残留物去除等。