KLA—Tencor推出叠对测量新系统Archer200

摘要

KLA—Tencor公司目前推出最新的叠对测量系统Archer200，搭载强化的光学系统，在32nm节点中协助客户达到两次图形曝（Double—patteming lithography，DPL）所需的高要求，大幅提升性能。