磁场辅助电沉积镍-纳米碳化硅复合镀层及其性能

摘要

采用磁场辅助电沉积法在低碳钢表面上制备了纯Ni镀层和Ni-纳米SiC复合镀层。镀液组成和工艺条件为:NiSO_(4)·6H_(2)O 285 g/L,NiCl_(2)·6H_(2)O 28 g/L,H_(3)BO_(3)25 g/L,十六烷基三甲基溴化铵80 mg/L,纳米SiC(平均粒径35 nm)0 g/L或7 g/L,pH 4.8,温度46℃,电流密度5.5 A/dm2,占空比30%,磁场强度0.2 A/m或0.4 A/m,时间30 min。对比了纯Ni镀层和Ni-纳米SiC复合镀层的组织结构、显微硬度和耐磨性,分析了磁场强度对镀层性能的影响。结果表明,在0.2 A/m磁场强度下所得Ni-纳米SiC复合镀层比相同磁场强度下制备的纯Ni镀层更均匀细致,显微硬度更高,耐磨性更强。增大磁场强度至0.4 A/m时,Ni-纳米SiC复合镀层的性能进一步提升。