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Techni-Met公司; 溅射涂覆; 聚合物薄膜; 光学透明度;
机译:钛基合金(第12部分)的牙科施用:通过反应性DC溅射用Ti / O成分梯度膜涂覆Ti-6Al-4V合金基材的涂覆
机译:溅射气体和工作电压对通过倾斜对置靶型直流磁控溅射法涂覆在有机基板上的ITO薄膜的光学和电学特性的影响
机译:倾斜计数器靶型DC磁控溅射方法溅射气体和工件电压对有机基质涂覆的ITO薄膜光学电气特性
机译:溅射涂覆三元铬 - 氮化膜结构,热稳定性和机械性能的作用对溅射涂层三元铬 - 氮化锰膜的影响
机译:未涂覆和涂覆的CMSX-4和CMSX-486单晶高温合金的比较氧化研究。
机译:磁控溅射涂覆的纳米MoS2纳米碳:一种高效的电催化剂析氢反应
机译:通过溅射法涂覆在聚丙烯无纺布上涂覆的抗菌和紫外线保护钕掺杂TiO2膜
机译:反射衬底上涂覆聚合物薄膜的光学性质和粘附性
机译:溅射涂覆的方法,溅射涂覆源以及具有至少一个这样的源的溅射涂覆设备
机译:使用磁控溅射法用透明金属氧化物层涂覆基板的方法包括将用于溅射的等离子体引导到涂覆区域中的溅射靶材上
机译:用于垂直溅射涂覆设备的衬底载体,包括待涂覆的衬底,其中衬底载体通过溅射涂覆室保持,其中衬底载体形成为后支撑板
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