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纳米氧化物薄膜紫外光照下气敏性能研究进展

         
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摘要

介绍了金属氧化物薄膜电极的制备方法与过程,阐述了紫外光作用于金属氧化物半导体的光照机理.基于实际应用和市场需求,就有关光照后金属氧化物薄膜的气敏性能的研究现状进行了探讨,并展望了其今后的应用与研究方向.

著录项

  • 来源
    《电子元件与材料》 |2008年第11期|8-11|共4页
  • 作者

    张宏; 林志东; 艾华;

  • 作者单位

    武汉工程大学,等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北,武汉,430073;

    武汉工程大学,等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北,武汉,430073;

    兰州理工大学,甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室,甘肃,兰州,730050;

    武汉工程大学,等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北,武汉,430073;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN304.92;
  • 关键词

    电子技术; 紫外光; 综述; 纳米金属氧化物薄膜; 气敏性能;

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