Fe-O纳米晶合金膜的软磁和高频特性(英文)

摘要

采用等离子体增强射频磁控溅射沉积方法,在室温下制备了Fe-O合金薄膜。研究了氧的掺杂量和薄膜厚度对薄膜软磁和高频特性的影响。结果发现少量氧的掺杂不导致低饱和磁化强度铁氧化物的形成,但可使薄膜晶粒细化,矫顽力下降。在薄膜厚度低于150nm且氧气与氩气相对流量比为2.4%的条件下,薄膜的实部磁导率高达1100且能够维持到1GHz.