390.60nm激光作用下Si(CH_3)_4的多光子解离与硅原子的(1+1)电离

摘要

在390.60nm的紫外激光作用下,利用超声分子束技术与飞行时间（TOF）质谱仪相结合的方法研究了气相四甲基硅分子多光子电离（MPI）的TOF质谱,在较低能量的激光作用下主要检测到了Si（CH3）+、Si+、C2+等离子的信号,有时甚至只检测到了Si+离子的信号;在较高能量的激光作用下主要检测到了Si（CH3）+H（n=1,2,3,4）、Si+、C2+甚至还有SiC3+,SiC2+等离子的信号。据此并结合以前得到的结论,讨论了四甲基硅分子可能的MPI过程。得出了Si+主要来自于Si（CH3）4的多光子解离-Si原子的（1+1）电离,Si（CH3）+H（n-1,2,3）主要来自于Si（CH3）H（n=1,2,3）的（3+1）电离、Si（CH3）+4来自于Si（CH3）4的（3+1）电离的结论。