无机纳米聚酰亚胺复合膜的结构与性能

摘要

聚酰亚胺(PI)作为一种功能材料,已广泛用于航空航天和微电子领域.然而聚酰亚胺的耐电晕性差限制其在高温和精密状态下的应用.有机-无机纳米复合和超声辐射可提高材料的耐电晕性.笔者利用超声辐射制备无机纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合膜.升温8h,温度至573.15K,得到平均厚度为20～30μm的膜.通过高压实验仪器检测聚酰亚胺复合膜的耐电晕性;通过红外光谱测定聚酰胺酸(PAA)转化为聚酰亚胺的亚胺化程度;通过原子力显微镜表征纳米微粒的特征,包括微粒尺寸、分布、形状和分散性.实验表明,比普通的搅拌方式,超声辐射可使聚酰亚胺膜中的纳米微粒得到更有效的分散,经过纳米二氧化硅杂化的聚酰亚胺复合膜比普通聚酰亚胺膜具有更高的耐电晕性.