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郭中正; 孙勇; 段林昆; 郭诗玫; 李玉阁;
昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室;
曲靖师范高等专科学校;
Cu-W合金薄膜; 微观结构; 非晶态; 力学性能;
机译:Mo含量对磁控溅射沉积在WC-Co硬质合金基体上TiAlMoN薄膜结构和力学性能的影响
机译:直流磁控溅射沉积沉积的备用合金薄膜中微结构和磁性的比较和高功率脉冲磁控溅射
机译:硅酸盐掺杂对纳米结构射频磁控溅射沉积羟基磷灰石薄膜结构和力学性能的影响
机译:磁控溅射沉积制备的镁钛固溶薄膜合金的结构与力学性能
机译:溅射沉积的氮化物和氧化物超晶格薄膜的结构,力学性能和热性能
机译:射频磁控溅射沉积BiFeO3薄膜的结构和纳米力学性能
机译:用三重溅射技术在Cu-W合金中形成亚稳态结构和非晶相
机译:使用阻挡层作为结构层的薄膜晶体管,以及用于阻挡层的溅射沉积的Cu合金溅射靶
机译:高纯度钴铁合金溅射靶材,使用相同溅射靶材沉积的磁性薄膜和制备相同高纯度钴铁合金溅射靶材的方法
机译:用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材,用于制造磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材和用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材
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