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王昕; 马大衍; 马胜利; 徐可为;
西安交通大学金属材料强度国家重点实验室;
PCVD; Ti(C; N); 相结构;
机译:脉冲直流偏压溅射制备Ti-CN-a:C薄膜的表征
机译:Ti-O_2反应直流和脉冲直流溅射中射频等离子体辅助氧化钛薄膜的结构改性
机译:脉冲直流与常规直流磁控共溅射相结合沉积Ti-C薄膜的结构和力学性能
机译:脉冲激光沉积制备的外延双层结构Bi_5Ti_3FeO_(15)(m = 4)和Bi_4Ti_3O_(12)-Bi_5Ti_3FeO_(15)(m = 3-4)的自然超晶格结构多铁性薄膜的表征
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:通过脉冲激光沉积制备具有可调光学性能的超均匀Pb0.865La0.09(Zr0.65Ti0.35)O3薄膜
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:Ti前体,制造相同方法的方法,利用Ti前体和含Ti薄膜的方法制造含Ti薄膜的方法
机译:包括其Ti 3 C 2薄膜制备方法的用于锂金属电池的Ti 3 C 2阳极和包括其的锂金属电池
机译:包括其Ti 2 C薄膜制备方法的用于锂金属电池的Ti 2 C阳极和包括其的锂金属电池
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