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李美姮; 孙晓峰; 张重远; 胡望宇; 管恒荣; 胡壮麒;
中国科学院金属研究所;
湖南大学材料科学与工程学院;
溅射NiCrAlY涂层; 高温氧化; 相变; 真空热处理; 氧化铝;
机译:表面条件对1000℃和1100℃氧化过程中NiCrAlY涂层氧化层形貌的影响
机译:用于SC超级合金的磁控溅射微晶β-NiAl涂层。第一部分。NiCrAlY涂层在1100摄氏度下等温氧化行为的表征和比较
机译:斜方晶Ti_2AlNb合金上NiCrAlY / Al_2O_3涂层的氧化和界面断裂行为
机译:反应溅射沉积的氧化锆和氧化钇稳定的氧化锆涂层的相形成和微观结构。
机译:氧溅射压力对气敏性ZnO薄膜结构形貌和光学性质的影响
机译:离子等离子体沉积过程中气体压力在M涂层微结构期间的影响及分子溅射沉积氧化物阴极的发射特性
机译:表面形貌对厚膜溅射薄膜结构生长的影响
机译:由氧化锆组成的膜结构,其制备方法以及具有氧化锆膜结构的压电/电致伸缩涂层装置
机译:随激光束变化的过程以及涂有其形貌板变化的涂层板的形貌。
机译:对于膜结构,在辐射作用期间可固化的涂层,实施该涂层的制备膜结构的过程,并由此生产膜
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