硅锗合金均匀性的X射线衍射研究

摘要

用X射线衍射技术研究了Si-Ge合金的均匀性。利用Vegard定律测定Si-Ge固溶体成分的不均匀性。除用X射线衍射作成分分析和相组成分析之外,还作了一些金相电子探针微区分析,进一步证实X射线法测定Si-Ge合金均匀程度的优越性。