络合均相法生产H_2WO_4的除硅条件对其沉淀率的影响

摘要

络合均相法可在室温和低酸度下生产 H_2WO_4。在 pH=9.4的正常情况下除硅,H_2WO_4的沉淀率可大于98%。如按传统工艺在 pH=8～9除硅,沉淀率仅85%左右。经研究发现,在 pH=8～9时,溶液中部分 Na_2WO_4形成仲钨酸 A,仲钨酸 A 在加热和 H_2SiO_3的催化作用下转变成不能用络合均相法沉淀 H_2WO_4的仲钨酸 B,从而使 H_2WO_4沉淀率明显下降。因此,选择较高的pH 除硅是获得高的 H_2WO_4沉淀率的一个重要条件。