电子束和离子束技术在微电子学中的应用

摘要

据讯,最近,IEEE电子器件会议上有人发表文章认为电子束技术在制备高分辨率、高密度和高速大规模集成电路方面比光刻技术优越。离子束掺杂工艺的控制比扩散工艺容易得多。电子束可以聚焦成非常小的点,大约5～100埃。在光刻工艺中,点的大小一直排回在5000埃的数量级内。因此,电子束能制作更复杂更致密的图案,制作的条宽小于0.2微米,以期形成高速电路。此外,电子束的开启或关断比较方便。