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张化福; 刘瑞金; 刘汉法; 陈钦生; 王新峰; 梅玉雪;
山东理工大学理学院,淄博255049;
掺锆氧化锌; 衬底温度; 直流磁控溅射; 薄膜;
机译:分步沉积对直流磁控溅射制备透明导电掺铝氧化锌薄膜结构和性能的影响
机译:射频功率对射频磁控溅射制备的透明掺锆氧化锌导电薄膜性能的影响
机译:沉积压力对射频磁控溅射制备透明导电掺锆氧化锌薄膜性能的影响
机译:脉冲磁控溅射厚度对掺硼氧化锌透明导电薄膜性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:衬底温度对直流磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响
机译:反应共溅射制备高透明导电铝掺杂氧化锌薄膜(后印刷)。
机译:基于氧化锌的透明导电膜,用于磁控溅射,液体晶体显示和触摸面板的烧结体靶,以及包括基于氧化锌的透明导电膜的装置
机译:氧化锌基透明导电膜,用于磁控溅射的烧结体靶,液晶显示器和触摸面板以及包括氧化锌基透明导电膜的设备,
机译:氧化锌透明导电膜,用于磁控溅射的烧结紧凑靶材,液晶显示和触控面板以及包含氧化锌透明导电膜的设备
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