退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
张伟; 路新春; 刘宇宏; 雒建斌;
清华大学摩擦学国家重点实验室;
化学机械抛光; 缓蚀剂; 摩擦系数; 表面电位; 极化曲线;
机译:铜和钽的化学机械抛光过程中,磨料颗粒和薄膜之间的相互作用
机译:高碘酸钾基浆料化学机械抛光过程中铜的摩擦腐蚀研究
机译:两种抑制剂在GLSI铜表面化学机械抛光中的成膜机理,缓蚀作用和协同作用的研究
机译:化学机械抛光过程中不同阻挡金属与铜表面相互作用的研究
机译:铜化学机械抛光过程中化学溶解与机械磨损之间的协同作用。
机译:噻唑基蓝作为中性氯化钠溶液中铜的缓蚀剂的实验和理论研究
机译:铜化学机械抛光过程中化学溶解与机械磨损之间的协同作用
机译:正磷酸盐作为高碱度饮用水系统中铜缓蚀剂的作用
机译:在金属化学机械抛光后的清洁过程中使用乙二醇作为缓蚀剂
机译:集成电路铜互连过程中铜化学机械抛光的优化方法
机译:从厨房油脂,涂料和产品过程中获得基于铜羧酸盐的缓蚀剂的方法(II)
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。