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徐亚伟; 王华明;
北京航空航天大学激光材料加工与制造技术实验室;
金属硅化物; 腐蚀; 极化曲线; 交流阻抗(EIS); 浸泡腐蚀;
机译:γ/ Mo_2Ni_3Si三元金属硅化物合金的氧化行为
机译:激光熔化的Cu_(ss)/(Cr_5Si_3-CrSi)金属硅化物合金的高温磨损行为
机译:Mo_(ss)增韧的Mo_2Ni_3Si金属硅化物合金的组织和干滑耐磨性
机译:Mo_(ss)增韧的Mo_2Ni_3Si金属硅化物合金的金属摩擦学相容性
机译:准分子激光表面熔化对AA6061-T6合金和SiCp / AA6061-T6复合材料的组织和腐蚀行为的影响
机译:通过激光熔化沉积在0.1米H中制备的非赤型毫微植物高熵合金的条纹非均匀腐蚀行为
机译:通过选择性激光熔化和热压与商业合金相比,Ti6Al4V的腐蚀和染色腐蚀行为
机译:使用共沉积难熔金属合金薄膜形成硅化物触点
机译:如何通过激光表面熔化工艺修复镍基合金(Cr缺乏诱导合金)材料的应力腐蚀裂纹(SSC),松弛或损坏(应力腐蚀裂纹或腐蚀疲劳裂纹)
机译:通过溅射金属沉积,金属离子注入或硅注入和激光退火为CMOS设备生产双门(一种金属和一种多金属或金属硅化物)的方法
机译:使用溅射金属沉积,金属离子注入或硅注入以及激光退火为CMOS器件生产双栅极(一种金属和一种多晶硅或金属硅化物)的方法
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