首页> 中文期刊> 《人工晶体学报》 >高岭石/二甲基亚砜插层复合物结构模拟

高岭石/二甲基亚砜插层复合物结构模拟

         

摘要

以张家口宣化高岭土为原料,制备高岭石/二甲基亚砜(dimethylsulfoxide,DMSO)插层复合物。利用X射线衍射(X-ray diffraction,XRD),傅里叶红外光谱(Fourier transform infrared spectracopy,FT-IR),热重-差热分析(Thermogravimetric-differential thermal analysis,TG-DTA)对制备的复合物进行表征。其中,XRD和FT-IR显示二甲基亚砜分子已进入高岭石层间,使其层间距由0.718 nm增加至1.130 nm。TG-DTA结果表明插层复合物热相变经历以下三个阶段:二甲基亚砜分子脱嵌(约199℃),脱羟基(约522℃),高岭石重结晶(997℃)。此外,依据表征结果推测二甲基亚砜分子在高岭石层间存在形式,构建了复合物体系的结构模型,并对高岭石/二甲基亚砜插层作用机理进行了讨论。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号