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方莉俐;
郑州大学材料物理教育部重点实验室;
衬底; 薄膜涂层; 刻蚀; 硅表面; 等离子体; 化学腐蚀; 成核; CVD金刚石; 表面预处理; 结合力;
机译:预处理对碳化钨衬底上合成金刚石薄膜的衬底预处理的影响
机译:两步预处理方法对硬质合金基体上CVD金刚石涂层附着力的影响
机译:各种方法预处理的Si衬底上沉积的纳米金刚石薄膜的生长和结构分析
机译:硅衬底预处理技术与CVD金刚石薄膜的关系
机译:氮化硅和硬质碳化钨工具上的微波辅助CVD金刚石涂层的分析和实验研究以及几种过渡金属上多晶金刚石的生长
机译:衬底对称性对CVD法合成MoS2薄膜枝晶形态的影响
机译:大面积硅衬底上的CVD金刚石生长大面积硅衬底上的CVD金刚石生长
机译:用于固体薄膜润滑的CVD金刚石,DLC和c-BN涂层
机译:通过化学气相沉积(CVD)对要进行金刚石涂层的碳化钨切削刀具的切削刀片进行预处理
机译:薄膜CVD金刚石涂层的表面处理,可改善电阻性能,并结合了完整的封装工艺涂层
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