相变光盘介电薄膜ZnS-SiO_2 的微结构和光学特性(英文)

摘要

采用射频磁控溅射法制备了ZnS SiO2 介电薄膜 ,利用透射电镜和椭偏仪研究了溅射条件对ZnS SiO2薄膜微结构和折射率n的影响 研究表明 ,ZnS SiO2 薄膜中存在微小晶粒 ,大小为 2～ 10nm的ZnS颗粒分布在SiO2 基体中 ,当溅射功率和溅射气压变化时 ,ZnS SiO2 薄膜的微结构和折射率n发生显著变化 ,微结构的变化是导致折射率n变化的主要原因 ,通过优化溅射条件可以制备适用于相变光盘的高质量ZnS SiO2