碳化钛膜的制备和应用研究

摘要

通过正交试验对PCVD-TiC膜的镀膜工艺参数进行了优化,得到了可制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率TiC膜的工艺参数.试验表明,在用PCVD法沉积TiC膜的过程中,TiCl_4和CH_4的流量是重要的控制参数.过多的TiCl_4和CH_4都会给TiC膜带来不利的影响.氩气虽然可以提高TiC膜的沉积速率,但同时也降低了膜-基之间的结合牢度.在冷挤压模具上应用的结果表明,镀有优化后的PCVD-TiC膜的模具比镀TiN膜的模具可提高2～4倍,与不镀膜的模具相比可提高寿命10倍以上.