反应磁控溅射制备超亲水性SiO_2/TiO_2多层膜的研究

摘要

本文采用反应磁控溅射的方法在玻璃基片上制备TiO2及SiO2/TiO2多层膜,利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、接触角测定等分析方法对试样进行表征。研究了不同制备工艺对薄膜亲水性能的影响,初步讨论了SiO2/TiO2多层膜的超亲水性机理。结果表明这种多层膜结构,其底层SiO2作用在于阻止玻璃中的钠离子在溅射过程中向薄膜中的扩散,适当厚度的顶层SiO2,一方面利用到了SiO2本身的亲水性,同时也利用到了TiO2薄膜的光致亲水性。因此在制备TiO2超亲水性薄膜的时候,考虑制备SiO2底层和顶层对于亲水性效果有明显的改善作用。