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张宝武; 霍剑锋; 饶鹏辉; 张明月; 刘媛媛; 余桂英; 王道档;
中国计量大学计量测试工程学院 浙江杭州310018;
讯技光电科技(上海)有限公司 上海200092;
原子光刻; 铬原子; 会聚激光; VirtualLabFusion平台;
机译:扫描光束激光干涉光刻系统中光学相位差和基片运动引起的同时误差的实时补偿
机译:基于等离子体纳米光刻的光学近场与光学近缘的分子重叠进行浅透视纳米尺寸的光学纳米光刻
机译:通过波光学软件VirtualLab进行光学设计和分析
机译:二硫化钼(MoS2)原子层的基片效应和光学响应
机译:非线性原子和非线性光学器件的应用:BEC基于纳米光刻,血管凝固差异频率,和超阵容感测
机译:压缩传感在原子系统仿真中的应用
机译:基于光学微传感器节点的定位方案的参数标识
机译:基于准光学maser Undulator的光刻X射线源
机译:光学元件用于微光刻投影曝光系统的光学系统的前表面镜具有基材,该基材中的掺杂原子位于材料中,并被光激发以产生抗焦荧光
机译:光学元件透镜,用于微光刻投影曝光系统的光学系统以偏转或重定向光以制造高度集成的电路,具有两个被激发光激发的掺杂原子
机译:光学装置,即极端UV光刻系统,具有布置在真空壳体中的屏幕,并且包括用于在光学表面的方向上引导捕获的原子氢的引导表面。
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