光波导材料与制备

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TN252 2002010395紫外写入 SiO2平面光波导制作新方法研究（三）:光波导制作=Fabrication of planar silica waveguides by di-rect UV writing[刊,中]/葛璜,安贵仁,周凯明（中科院半导体所.北京（100083））,孙明武（中国建材科学研究院玻璃所.北京（100024））∥光子学报.—2000,29（Z1）.

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来源
《中国光学(中英文)》 |2002年第1期|55-56|共2页
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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光波导;
关键词
平面光波导; 离子交换光波导; 光子学; 新方法研究; 制备工艺; 半导体; 中科院; 紫外写入; 光波导材料; 波导制备;

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