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光学加工工艺与设备

             

摘要

TN305.2 2003043103聚二甲基硅氧烷微流控芯片的紫外光照射表面处理研究=Surface modification of poly(dimethylsiloxane)-fabricatedmicrofluidic chip by UV radiation[刊,中]/孟斐(浙江大学化学系微分析系统研究所.浙江,杭州(310028)),陈恒武…∥高等学校化学学报.-2002,23(7).-1264-1268研究了紫外光化学表面改性对聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片的片基间粘接力及毛细管通道电渗流性能的影响。PDMS片基经紫外光射照后,粘接力增强,可实现PDMS芯片的永久性封合,同时亲水性得到改善,通道中的电渗流增大。与文献报道的等离子体表面处理方法比较,采用紫外光表面处理,设备简单,操作方便,耗费少,是一种简单易行的聚二甲基硅氧烷芯片表面处理方法。图7表1参10(张志升)

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