离子电镀用离子源装置

摘要

＜正＞ 日本大阪光音电气公司最近向美国出售了一种用于大规模集成电路整个工程的离子电镀用离子源装置。因离子电镀是在真空中进行的不会产生电镀公害,且可实现非金属电镀,所以用途非常广泛。据称此装置不仅构造十分简单,而且最大离子能量只有10千电子伏。最大离子电流只有10毫安。电镀速度为1000埃/分,是普遍电镀方式的2倍。坩锅的温度最高达2500℃。这种装置的另一个优点是采用自动方式供给电镀材料。