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采用片状氮化硼扩散源提高TTL电路质量

         

摘要

<正> 硅固态平面扩散源是七十年代出现的一种新的扩散技术,由于它具有均匀的扩散浓度,好的重复性和大大提高劳动生产率的优点,特别是随着硅片直径的增大、浅结扩散的采用促使氮化硼平面源的应用得到推广。我厂自76年年底开始采用片状氮化硼后使TTL电路的质量得到了一定程度的提高,最近四机部在上海召开了片状氮化硼扩散源经验交流会,使氮化硼的应用又取得了进展。

著录项

  • 来源
    《半导体技术 》 |1978年第2期|29-34|共6页
  • 作者

  • 作者单位

    上海无线电十九厂;

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  • 正文语种 chi
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