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李思渊; 张旗; 王毓珍; 宣建功;
兰州大学物理系;
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机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀在石英玻璃上的微细加工及其应用
机译:热纳米压印光刻技术和CI_2 / Xe电感耦合等离子体刻蚀对硅基高折射率光栅结构进行微细加工
机译:硅微细化的深冷SF_6-O_2和Bosch等离子刻蚀工艺的局限性和互补值
机译:影响模型水污染物的光催化降解动力学的物理化学和几何因素。
机译:六氟化硫气体和后退火处理对电感耦合等离子体刻蚀钛酸钡薄膜的影响
机译:氟化等离子体中钛酸锶的物理化学刻蚀研究
机译:等离子体诱导损伤对离子注入Gaas mEsFET在反应离子刻蚀(RIE)和等离子体灰化过程中通道层的影响。
机译:等离子刻蚀制备纳米微细图案的方法
机译:用含氟气态化合物的硅等离子刻蚀制备微细器件
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