TCE氧化膜质量的分析

摘要

＜正＞把MOS器件的工作原理和一些材料的电化学性能相结合,可制成一种化学敏感场效应晶体管.这是一种很有广泛用途的敏感器件,其栅二氧化硅膜除本身可作为氢离子敏感膜以外,与其它敏感膜相结合,可以作成种类繁多的敏感器件.从敏感器件本身的制造来说,生长良好的SiO2膜是至关重要的工艺,HCl氧化虽能得到较好的结果.但HCl吸水后,有很强的腐蚀性,对氧化管道和仪器设备破坏性很