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和志刚; 冯嘉猷; 汤海鹏; 范玉殿; 李恒德;
清华大学;
清华大学材料科学与工程系材料科学教研室;
清华大学 100084;
离化原子团束工艺; 薄膜; 薄膜结构;
机译:第三代薄雾化学汽相淀积制备导电锑掺杂氧化锡薄膜(SnO_x:Sb)的研究
机译:的直接增长40纳米薄膜上摘要化学砷化镓/ Ge异质结构汽相淀积
机译:结构和光学之间的关系在多晶硅薄膜准备plasma-enhanced低温化学汽相淀积
机译:激光重复频率对淀积Y_3Fe_5O_(12)/ Gd_3Ga_5O_(12)(111)薄膜的晶体结构,组成和磁性的影响
机译:羟基赤铁矿(1102)表面吸附Pb(II)和Sb(V)的结构研究。
机译:通过磁控溅射制备TE-SB2SE3薄膜的结构形态和光电性能
机译:真空紫外直接激发型光化学汽相淀积法研究SIO2薄膜的低温生长
机译:抗钙钛矿氮化物的合成,结构和性质Ca3mN,m = p,as,sb,Bi,Ge,sn和pb
机译:低温多晶硅薄膜的元件及其在低温下直接淀积的多晶硅薄膜的方法及其感应耦合等离子体化学气相淀积设备
机译:高速旋转汽相淀积装置及高速旋转汽相淀积薄膜形成方法
机译:低温多晶硅薄膜的组成及其在低温下的直接淀积和电感耦合等离子体化学气相沉积设备制造多晶硅薄膜的方法
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