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丁宇权; 丁予上; 江仲华; 王秀芳;
浙江大学材料科学与工程学系;
机译:用氢稀释法通过极高频辉光放电制备的微晶硅的微观结构和表面粗糙度
机译:射频辉光放电法研究含100%SiH4的微晶硅的低温生长
机译:高频辉光放电制备结晶氢化硅膜的微观结构和光学性质
机译:含氟碳放电的等离子体蚀刻过程中硅和二氧化硅表面的性质
机译:含氟硅氧烷的研究:辛酸亚锡和碱金属碳酸盐催化的硅烷醇封端的三氟丙基甲基硅氧烷的缩聚反应,以及对氟苯基,对三氟甲基苯基和五氟苯基取代的硅氧烷的合成和表征
机译:通过辉光放电光谱研究掺杂元素来表征非晶硅薄膜。电导率和带隙能量测量的相关性
机译:通过光CVD(化学/气相沉积)和辉光放电制备的微晶硅 - 碳p层的研究:最终转包报告,1987年12月1日 - 1988年11月30日。
机译:制备方法,辉光放电发射光谱法,仪器和辉光放电发射光谱仪
机译:在液相的工作环境中产生异常辉光放电的体积声波法的方法,异常辉光放电的装置以及异常辉光放电的刺激装置
机译:彩色无定形硅微细颗粒,制备相同和含彩色无定形硅微细颗粒的树脂组合物的方法
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