基于可视化的真空镀膜装备专利竞争技术分析

摘要

针对当前中国精密真空镀膜装备技术与国外差距甚远，存在核心技术缺失、技术发展方向不明确、研发意愿不足等问题，基于可视化技术分析真空镀膜装备国内外专利信息。探索数据处理过程中，通过字段创建与组合以可视化解析当前专利态势和技术，聚焦技术壁垒背景下光学领域磁控溅射（MS）与半导体领域原子层沉积（ALD）国外重点装备制造厂商的技术关注，挖掘出关键部件专利布局、技术功效、专利空白、比较优势等竞争信息，由桑基图、实物图、簇状气泡图等可视化图像直观展现分析成果，以期为中国真空镀膜装备制造企业技术创新思路借鉴、企业并购、技术合作、人才引进及产业相关政策制定提供参考策略。