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聂二勇; 刘东来; 张云森; 杨治美; 刘俊刚; 龚敏; 孙小松;
四川大学材料科学与工程学院,成都610064;
四川大学物理科学与技术学院,微电子科学与技术四川省重点实验室,成都610064;
重庆光电技术研究所,重庆400060;
Zn-ZnO纳米结构; 电化学沉积; 退火; 紫外荧光;
机译:退火温度对使用简单前体通过溶胶-凝胶法制备的二元锌锡氧化物纳米复合材料光学性能的影响:DRS,FT-IR,XRD,FESEM研究的结构和光学研究
机译:退火温度对化学浴沉积法制备Gd2ZR2O7纳米结构结构和光学性能的影响
机译:退火对滴铸法制备的亚甲基绿纳米结构薄膜结构和光学性能的影响
机译:预退火和退火温度对化学溶液沉积制备的多二二种BifeO_3薄膜微观结构和光学性能的影响(CSD)
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:通过过氧钛复合物离子制备的过氧钛酸盐纳米管晶体结构形态和光学性质的退火温度的影响
机译:退火温度对溶胶-凝胶法制备纳米ZnO薄膜的结构和光学性能的影响
机译:退火条件对Y-Ba-Cu-O薄膜结构和超导性能的影响
机译:干扰和测量样品的光学性能以及影响样品的光学性能的环境条件的变化。
机译:纳米尺寸金属氧化物添加剂的制备方法,其可降低烧结温度和/或提高陶瓷零件制造中的生产率,在不影响陶瓷体、瓷砖或涂层的灰化性能的情况下改善机械性能
机译:制备纳米尺寸金属氧化物添加剂的方法,该添加剂可降低烧结温度和/或提高陶瓷零件的生产效率,改善机械性能而又不影响陶瓷体,板材或涂层的粉化性能
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