石英晶体微天平在高分子研究中的应用

摘要

石英晶体微天平(QCM)作为一种强有力的表征工具已被广泛应用于高分子研究之中.本文中,作者介绍了QCM的发展简史、基本原理以及实验样品制备方法.在此基础上,介绍了如何基于带有耗散测量功能的石英晶体微天平(QCM-D)及相关联用技术研究界面接枝高分子构象行为、高分子的离子效应以及高分子海洋防污材料,展示了QCM-D技术在高分子研究中的广阔应用前景.QCM-D可同时检测界面高分子薄膜的质量变化和刚性变化,从而反映其结构变化.与光谱型椭偏仪联用后,还可同步获取界面高分子薄膜的厚度变化等信息,可以有效解决相关高分子研究中的问题.希望本文能够对如何利用QCM-D技术开展高分子研究起到一定的启示作用,使这一表征技术能够为高分子研究解决更多问题.