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畅玢; 曹梅; 龙晋明; 朱晓云; 亢若谷; 杨杰伟;
昆明理工大学材料科学与工程学院;
昆明650093;
昆明理工大学理学院;
昆明650500;
昆明冶研新材料股份有限公司;
昆明650031;
高择优取向; 结晶度; 晶粒尺寸; 电流效率; 沉积速率;
机译:高沉积速率对脉冲激光沉积制备的LiCoO2外延膜的影响
机译:插入中频脉冲对叠加HIPIMS工艺制备的NC-WC / A-C:H薄膜的I-V鉴别,沉积速率和性能的影响
机译:工艺参数对磁控溅射法制备氧化铬薄膜的结构和沉积速率的影响
机译:高沉积速率的脉冲等离子体工艺制备纳米晶硅量子点
机译:优化锡镀层的电沉积工艺
机译:镁合金上化学镀Ni-P-Al2O3复合镀层的沉积工艺及性能
机译:氢气/甲烷比例对以电浆辅助化学气相沉积法制备碳密封镀层光纤之镀层结构与性质影响
机译:使用超高频等离子体以高沉积速率制备基于a-si:H的三结太阳能电池:年度技术状况报告,1998年3月11日至11月11日至11月
机译:用磁控反应溅射沉积代替铬镀层制备高沉积速率的碳化钨薄膜的方法
机译:沉积高沉积速率的掺卤素氧化硅层的工艺
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