SiWN/SiWON双吸收层薄膜的光吸收性能（英文）

摘要

采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了氮化物SiWN和氮氧化物SiWON层。通过拟合反射光谱和透射光谱数据，分别获得两个吸收层的折射率和消光系数。SiWN层的折射率大于0．75，消光系数大于1．25并且随着波长的增长而增加，表现出金属性质。SiWON层具有低的消光系数（0．5～1．5），表现出半导体性质。根据SiWN和SiWON单层的光学常数，模拟得到理论吸收率为0．901的SiWN／SiWON双吸收层。根据拟合得到的参数，制备了吸收率为0．895的双吸收层。