一种新型量子点胶束的制备及其细胞成像研究

摘要

目的对水热法合成的硅量子点进行疏水化修饰,制备一种基于量子点的胶束,并探讨其在细胞成像中的应用。方法以抗坏血酸和3-[2-(2-氨基乙基氨基)乙基氨基]丙基-三甲氧基硅烷为原料,采用水热法合成硅量子点(SiQD),用十八烷基三甲氧基硅烷对SiQD表面进行疏水化修饰获得O-SiQD,将其与DSPE-PEG2000自组装得到在水中能稳定分散的胶束粒子(QDM),用透射电子显微镜(TEM)、丁达尔效应和动态光散射(DLS)等对其性能进行表征;应用CCK-8试剂盒检测QDM的细胞毒性;利用高内涵细胞成像系统评价QDM的细胞成像性能。结果 TEM结果显示SiQD的粒径为(3.64±0.11)nm;DLS表明QDM分布均匀,水合粒径为(86.79±1.18)nm,表面电势约为(-11.65±0.64)mV;QDM(<100 μg·mL^(-1))无明显细胞毒性;QDM与A549细胞孵育6 h后,在细胞胞浆内能检测到较好的量子点荧光信号。结论 O-SiQD的合成方法简单高效,安全剂量的QDM具有较好的胞内成像功能。